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PSM工艺

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PHASE SHIFT MASK（PSM掩模），通过MOSI层产生180°的相位差以降低光的衍射作用，从而提高掩模图形分辨率

PSM工艺.png


相移掩模技术利益：削减邻近效应，利用光的有关性，抵消部门衍射扩大效应，扭转空间光强散布，使更多的能量从低频分配到高频上，添补投影物镜通低频阻高频的弊端，提高空间图像的反差，扭转像质，使分辨率和焦深增大

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